Abstract
在今日科技發達的時代中,我們需要高資訊儲存的系統以應所需,而磁光記錄就能有此種功能,因此對於磁光記錄投入很大的研究.可擦拭磁光材料,由於它具有很強的垂直磁異向性,使得能有很高的記錄容量,以應目前大量資訊的需求.而影響磁光材料的垂直磁異向性的因素有很多,如磁光材料的成份組成,磁光薄膜濺鍍時的條件,及基板本身的特性等都可能造成垂直磁異向性的改變.在本篇論文的主題分成兩部份,一為研究濺鍍TbFeCo薄膜時,通入氧氣對TbFeCo薄膜垂直磁異向性的影響,另一為基板表面粗糙度對TbFeCo薄膜垂直磁異向性的影響.在這篇論文中,共分五個章節.第一章導論,簡介磁光材料的磁特性,以及磁光光碟的寫,讀,擦原理.第二章系統設備及原理,將實驗室中製作薄膜的儀器設備,以及測量樣品的成份,磁性,厚度之儀器對其結構及原理做個簡單介紹.第三章實驗方法與部驟,從濺鍍薄膜前所需的一些準備工作,到濺鍍薄膜時各項實驗條件,逐一敘述之.第四章結果與討論,列出樣品的測量結果,並討論形成這些結果之因.第五章討論,最後從我們的討論結果中整理出影響垂直磁異向性之.在氧氣影響磁異向性之因,可能是RE-TM氧化使得飽和磁化向量降低.而粗糙度影響垂直磁異向性之因,可能為粗糙度改變磁化向量的排列,降低了飽和磁化向量,粗糙度影響磁壁的移動使得矯頑磁力上升,對於粗糙度影響磁光薄膜之垂直磁異向性,我們需要更薄與更厚的樣品研究來驗證我們的推論,因此在這方面我們期待後續的研究工作,以期能瞭解粗糙度影響磁光薄膜垂直磁異向性之因.