Abstract
本研究以玻璃容積氣體吸附設備來測量氫氣在鈀觸媒上的吸附熱-Hs，由不同溫度下的恆溫吸附曲線，可獲得不同溫度下同吸附量 (isostere) 時所需的氣體壓力，再應用Clausius-Clapeyron方程式計算吸附熱。氫在Pd/Al2O3觸媒上的吸著熱值會隨氫在鈀上的吸著量而改變，我們可粗分成三部份： 1.低氫吸著量：-△Hs會隨H/Pd下降。 2.高氫吸著量：-△Hs=8.4 kcal mol-1。 3.中間吸著量：-△Hs在7.0與9.5 kcal mol-1間的一個振動。這是由於低氫吸著量時氫吸附在鈀的表面，當表面為氫所覆滿後，氫會進入次表層而把表面稍微漲離緊密晶體；而後氫進入鈀的內層。在低氫吸著量部份，吸附熱由大約 23 kcal mol-1隨著覆蓋率增加而減少；至覆蓋率約為0.5 左右吸附熱趨平穩；而後隨著覆蓋率增加其吸附熱又減少。且居平穩吸附熱的覆蓋率範圍隨分散度的增加而增加，這是由於觸媒表面存在不同顆粒大小的鈀金屬團分佈。居平穩吸附熱值也隨分散度的增加而減少，因為隨著散度增加，樣品中佔最大比例的顆粒粒徑減小，與擔體有較強作用力。且在不同擔體上也有明顯的擔體作用力，在 SiO2上擔體作用力比Al2O3大，吸附熱較小。