Abstract
鋁合金廣泛應用於積體電路之通路（interconnect）上，然而製造上仍存在一些問題。本研究首先探討鋁矽合金濺鍍膜的一些基本特性，接著研究活性離子蝕刻（RIE ）在金屬膜圖形轉換（pattern transfer）過程，可能引發的腐蝕問題，同時RIE 的蝕刻參數蝕刻率的影響亦做初步的探討。最後再研究基質面磷玻璃（PSG ）之磷含量對上層金屬膜所造成腐蝕之現象。
- Title
- 活性離子蝕刻鋁矽濺鍍膜
- Translated title
- 活性離子蝕刻鋁矽濺鍍膜
- Creators
- 楊棋銘 (Author)
- Contributors
- 周更生 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Language
- English