消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究

Thesis

消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究

王韻雯

Masters, 國立清華大學, 奈米工程與微系統研究所

2014

Abstract

雷射干涉微影

消色差干涉微影

相位光柵

奈米級圖案化藍寶石基板

多次曝光干涉微影

Laser Interference Lithography

Achromatic Interference Lithography

Phase Grating

Nano-Patterned Sapphire Substrate

Multi-Exposure Interference Lithography

因申請專利緣故，資料延後公開

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Details

Title: 消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究
Translated title: 消色差干涉微影技術應用於製作大面積曝光之研究
Creators: 王韻雯
Contributors: 傅建中 (Advisor)
Awarding Institution: 國立清華大學, 奈米工程與微系統研究所; Masters
Theses and Dissertations: Masters, 國立清華大學, 奈米工程與微系統研究所
Language: Traditional Chinese
Resource Type: Thesis
Date published: 2015