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混合High-k材料在單晶太陽能電池的鈍化層之應用
Thesis

混合High-k材料在單晶太陽能電池的鈍化層之應用

郭俊麒
Masters, National Tsing Hua University
2012

Abstract

ALD
在本篇論文中,使用原子層化學氣相沉積法(Atomic layer chemical deposition,簡稱ALD)去鍍製混合不同High-k材料的薄膜當作太陽能電池的鈍化層。使用混合的方式是想嘗試去找出能產生比AL2O3 更多固定電荷量或更好的界面狀態的混合比例。上述兩者特性都能有效地降低表面複合並增加載子的生命週期,進而提昇開路電壓Voc,其為太陽能電池效率的重要因素。 ALD有極佳的厚度控制能力、均勻覆蓋能力等優點,因此如果想要將High-k鈍化層應用在具有高深寬比的表面結構,使用ALD鍍製是一個理想的方式。在鍍製完後,量測其電容電壓特性,再藉由電腦程式得到平帶電壓的數據並計算其所產生的固定電荷量。用QSSPC量測載子的生命週期表現,並以此探討不同材料不同混合比例所對應的界面狀態,以及其場效鈍化的效果。最後,也將討論氧退火製程對High-k混合薄膜造成的影響

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