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準一維電荷密度波動力學之X光繞射研究
Thesis

準一維電荷密度波動力學之X光繞射研究

羅中佑
Masters, National Tsing Hua University
2003

Abstract

電荷密度波X光繞射複繞射相位滑移關聯長度 Charge density waveX-ray diffractionMulti-beam diffractionPhase slipPlastic flowCorrelation length
本實驗利用三光複繞射法,量測藍銅礦 $\mathrm{K_{0.3}MoO_3}$ 特定CDW繞射峰在外加電場下的結構相位變化,以觀察電荷密度波的動態變化過程。CDW原本是被材料中雜質 ``釘住(pinned)'' 不動的,需施加足夠大的電場才能驅動它,進入 ``moving'' 狀態。從實驗中我們發現CDW分數峰繞射 (13 0.748 -6.5) 在電導率變化最劇烈的區域有著明顯的結構相位變化。過此區域之後,繞射峰半高寬變窄,峰值強度增加,顯示CDW週期變得更加有序,然而複繞射峰形會回到未加電場前的模樣。我們相信利用三光繞射所觀察到的相位變化反映了在外加電場影響下,介於CDW pinned state 與 moving state 之間暫態的序參量相位變化。此外,進一步分析繞射峰形,進入 moving state 的CDW沿著波行進方向(同時也是外加電場方向)的結構有序程度並沒有太大的改變,繞射峰寬變窄主要來自垂直於波前方向的貢獻。由此可推測 $\mathrm {K_{0.3}MoO_3}$ 中的CDW進入 moving state 後,長鏈之間的相位關聯性變得更強,逐漸建立起三維的長程有序結構。

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