Abstract
由於半導體元件製程都是在無塵室中進行，所以若能對無塵室的流場做一瞭解，將有助於其品質管理與生產效益。以數值模擬計算整個無塵室的流場時，在高架地板回風孔處的邊界處理最為困難。因此本文目的主要在計算無塵室中靠近高架地板處之流場，求得壓力差與速度之間的函數關係並建立一模式(Model)，使得在計算整個全尺寸無塵室的流場時可引用本文的計算結果做為邊界條件，節省計算時間及記憶體空間。本文所採用的為一般無塵室中常見之圓孔狀高架地板，以數值計算的方法來模擬在高架地板上下之流場分佈及變化情況。基於最一般性的狀況，假設高架地板之開孔形狀為均一之正圓形，且呈均勻排列。其中的物理參數包括雷諾數的改變、開孔率的大小….等等，並討論這些參數的改變對流場的影響。其中所採用的數值技巧有：Weighting Function scheme、NAPPLE、SIS等。可以簡單迅速的求得流場的解。