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無電鍍銅氧化鋁粒子強化鋁基複合材料之研究
Thesis

無電鍍銅氧化鋁粒子強化鋁基複合材料之研究

袁鎮國
Masters, National Tsing Hua University
1993

Abstract

無電鍍銅 金屬基複合材料 真空浸透 electroless copper metal matrix composites infiltration
本實驗以無電鍍法利用甲醛還原硫酸銅溶液,在180#氧化鋁粒子上鍍上一層銅膜,研究其無電鍍參數對鍍銅速率的影響;並利用真空浸透法製造此種鍍銅氧化鋁粉的複合材料。結果發現,增加鍍著時間、甲醛濃度、硫酸銅濃度,都可提高鍍銅量,但也都有飽和趨勢。其臨界值為每克氧化鋁含50毫克銅膜;超過此值則鍍銅速率變慢。銅膜黏結力並不大,易有剝落現象,尤其是硫酸銅濃度太低時。真空浸透鍍銅氧化鋁粉,可得無明顯孔洞之氧化鋁(Cu)/356Al 之複合材料,其粒子含量約為45%。彎曲試驗證實含銅量較低時,浸透效果不佳;含銅量太高則因為銅鋁θ相包圍氧化鋁。兩者都造成氧化鋁與鋁基材之間鍵結不佳,強度較低;而以50?60mg/g氧化鋁的含銅量較恰當。

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