Abstract
鋯－４合金經快中子總通量(flaence)約１０19 ?１０20ｎ╱ｃｍ□照射後，對氫之吸收有顯著的增加。在60℃?80℃，氫在照射後α相鋯－４中之擴散係數為： -17390 Ｄ（照射後）＝2.88exp（ ──── ） RT -23460 Ｄ（照射前）＝15100exp（ ──── ） RT約有50﹪之增加。而照射後鋯－４，在250℃?420℃，其驅散(disperse)析出之８相氫化鋯之速率亦有所改變。 -10 -3340 Ｄd（照射後）＝8.37×10 exp（ ──── ） RT -9 -4360 Ｄd（照射前）＝1.73×10 exp（ ──── ） RT由於照射後鋯-4更易於驅散析出之氫化物，所以可利用下面包晶反應(peritectridreaction) 。 255℃ α－鋯＋８－氫化鋯 γ－氫化鋯在較低之溫度進行球化處理(Spheroidiaztion treatment) 。經快中子總通量 5.6 19×10 n/cm□照射後之鋯－４，氫濃度500?680ppm ，在255℃ 上下以30℃/min之速率升降50?70次循環後，即可得到滿意之球化。