Abstract
腐蝕(corrosion)是金屬與周圍環境進行電化學反應而遭損害，抑制腐蝕 之基本原理即為那些會使金屬進行氧化反應的因子，或是阻絕腐蝕因子與 金屬的反應。在眾多的防蝕技術中，最為廣泛應用的是陰極保護，其原理 係藉給予欲一反向電流於陽極上(外加電流或外加犧牲陽極)使其趨於陰極 極化，強迫欲保護金屬成為陰極。然而，本實驗室最近發現，在沒有除氧 、未對欲保護金屬做表面塗佈、電解質中也無額外加入腐蝕抑制劑的條件 下，當活性異於銅的金屬置入含有銅片的電解質中，可以在一定的距離內 ，不需將系統接成通路，達到類似陰極保護的效果。由於此現象與標準之 陰極防蝕規範有很大的不同，因此本論文之實驗設計則以改變電解質組成 及極板材料為主，並以單置銅片、單置鋅片及導通組做為對照組，且設計 鹽橋隔離實驗，以AAS(原子吸收光譜)及阻抗儀、極化曲線掃瞄等分析方 法，找出此異常現象可能的發生原因。由所得實驗結果，歸納出此異常現 象的發生係因銅離子的存在也是影響金屬銅腐蝕速率快慢的主要因子，因 此對於此類似陰極防蝕的現象，應可解釋為在這種未導通的裝置裡，由於 銅離子被還原致使銅離子濃度下降而較單置銅組的腐蝕速率為低，因為單 置銅組的銅片多了銅離子的腐蝕因子。