Abstract
近二十年來，金屬矽化物已被廣泛地應用在半導體工業上，作為金屬與矽接觸面上的中介質。但是金屬會依熱處理的溫度不同，而以不一樣的比例與矽化合。形成不同固相的矽化物，它們的組成、結構、和光學性質各不相同。我們即以光譜式橢圓偏光儀，測量兩種金屬－鈦和金－的各種矽化物的光學性質 N、K ，和垂直反射率 R，並分別以電子束微量分析（EPMA）和X 光繞射（XRD ）來檢測被測量矽化物的相（PHASE）。檢測的結果顯示，我們在鈦－矽系統中，測量到的是TI（未做熱處理）、TI5SI4，TISI4 在可見光區的光學常數，金－矽系統中則是尚未處理的AU，以及AU7 SI，AU0.767 SI0.123 ，和AU三者之混合物的光學常數。被引用的資料，最主要的有三本書，分別為參考書目中的〔１〕、〔７〕、和〔１６〕。