Abstract
本實驗以聚二甲基矽氧烷(PDMS)作為彈性基材，利用自製夾具預先施加5%單軸向拉伸應變後在表面沉積矽薄膜，隨後釋放應變並使用步進馬達控制釋放速率。我們藉由原子力顯微鏡(AFM)及光學顯微鏡(OM)來觀察試片表面的皺波結構；由OM觀察發現皺波結構上會出現裂縫及類差排兩種型態的缺陷，本實驗將著重在探討不同參數對皺波結構上類差排密度的影響，我們藉由OM影像圖來統計單位面積內類差排的數量。 實驗發現類差排密度會隨應變釋放速率增加而增加，較厚的鍍矽層能降低應變釋放速率所帶來的影響而使類差排密度約略維持定值；實驗也顯示類差排密度會隨鍍矽層厚度增加而減少。本實驗也嘗試將PDMS旋轉塗佈在不同基板上，實驗顯示塗佈在矽晶圓上所製備的PDMS其類差排密度會低於塗佈在聚酯膜上所得到的PDMS。在兩階段應變釋放實驗中，我們觀察到類差排密度僅與初期應變釋放速率有關；而對試片施予循環拉伸及釋放應變也顯示類差排密度不會有大幅度的變動。