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真空蒸鍍聚合法製備非線性光學高分子膜
Thesis

真空蒸鍍聚合法製備非線性光學高分子膜

陸建宇
Masters, 國立清華大學, 材料科學工程學系
1998

Abstract

真空蒸鍍聚合 非線性光學 硬化溫度 倍頻效應
本研究係以真空蒸鍍聚合(Vapor Deposition Polymerization) 法製備非線性光學聚亞醯胺薄膜。首先,使用高透光性的玻璃基材,並以光蝕刻法製作金電極對。利用石英振盪膜厚計,偵測二酸單體6F-dianhydride(6FDA)、二胺單體4,4’-oxydianiline(ODA)及偶氮染料Disperse Red 1(DR1)之沉積速率與蒸鍍溫度變化之關係,據以求得製備非線性光學薄膜之最佳蒸鍍條件,在蒸鍍聚合的過程中,即時施加一極化電場,使DR1產生有序排列,最後再經熱硬化製程,增加薄膜之安定性,避免薄膜受水氣攻擊而劣化。 本研究中,我們擬改善薄膜之非線性效應及安定性。在非線性效應方面,我們提出一定量方式,比較平面型非線性光學薄膜在含不同DR1濃度下之倍頻效應。目前,當DR1濃度在36%時,具有較佳之倍頻效應,同時保有良好之安定性,在大氣下放置12小時後,其倍頻強度僅衰減至原強度之52%,當濃度繼續提高時,則其非線性效應減弱,且時效安定性產生明顯之衰減。另外,在改善安定性方面,重新設計一真空腔,以直接加熱的方式,取代原先腔體採用的間接加熱方式,提高硬化溫度,以提昇薄膜之熱安定性。以新腔體硬化後之薄膜,在經過12小時後,其非線性強度衰減後之強度,由原先之61%,提高至78%。

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