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真空蒸鍍與化學噴霧法製造之硫化鎘薄膜的結構
Thesis

真空蒸鍍與化學噴霧法製造之硫化鎘薄膜的結構

黃尊陸
Masters, National Tsing Hua University
1975

Abstract

材料科學物理 MATERIALS-SCIENCEPHYSICS
用真空蒸鍍法和化學噴霧法製造硫化鎘薄膜。選取不同的製造條件,包括(1)基板材料,(2)蒸鍍源溫度,(3)基板溫度,(4)沉積速率,(5)陰陽離子比率。用穿透式電子顯微鏡和x─繞射儀研究不同條件下所製薄膜的結晶性。同時研究退火的效應。

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