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矽(111)表面氮化過程之掃描穿隧顯微術研究
Thesis

矽(111)表面氮化過程之掃描穿隧顯微術研究

薛漢鼎
Masters, 國立清華大學, 物理系
1999

Abstract

掃描式電子穿隧顯微鏡 氮化 矽(111) 氮化矽 表面物理 部份氮化 scanning tunneling microscopy stm nitridation silicon nitride Si(111) surface physics patritial nitridation
在本實驗中,我們由乾淨之矽(111)樣品,通入裂解後的氨氣,經過高溫下之反應,而成功地觀察到部份氮化之結構以及氮化矽之8×8結構。 在部份氮化方面,我們藉由不同的氮化溫度而歸納出兩種不同表面特性之氮化表面。在氮化矽之8×8結構方面,藉由高解析度的超高真空STM影像,我們觀察到氮化矽之表面週期性結構,為8×8及8/3×8/3兩種結構,經由我們的量測,其結構均符合過去在LEED研究上所看到圖形之週期性【單位為單晶矽(111)-(1×1)之晶格常數】,在此直接證實了氮化矽單晶之8×8及8/3×8/3結構。在本論文之最後,我們更經由所得到的小範圍高解析度之影像而將所見之氮化矽8單晶結構提出一個解釋。 此外,在本實驗中並得到其它相關的STM影像中,諸如8×8氮化矽島狀成核的行為、氮化矽8×8台階之高度、矽7×7結構及氮化矽8×8結構之共存影像………等,這些結果對於瞭解矽氮化機制之研究都是一項很大的幫助。

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