Abstract
應用化學方法從粗矽（約合98％的矽）製造半導體高純度矽的過程，主要包含兩個步驟：(１)在 360℃附近使無水氯化氫與矽作用，產生三氯矽甲烷。(２)於1100℃附近使三氯矽甲烷與氫氣作用，還原成矽。 經此二步驟後，大部分的雜質均可除去。但仍有一些，尤其是含磷及硼的化合物，仍留存於產物當中，本實驗即設計一些化學方法，利用適當的路易士酸鹼以除去這些雜質。 此外，我們發展一項薑黃素法以改善硼之分析方法，又發展鉬釩磷酸法及中活化分析法以進行磷之微量分析。
- Title
- 矽之化學純化及矽中微量元素之分析
- Translated title
- 矽之化學純化及矽中微量元素之分析
- Creators
- 呂正理 (Author)
- Contributors
- 張昭鼎 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Language
- English