Abstract
本論文為GeSi/Ge的介面研究，目的在發展一新方法，來分析介面結構的訊息。利用三光複繞射技術，以Ge 為一階繞射，利用影像板量測沿著基底與薄膜介面行進的二階(Secondary)Ge 與Ge 繞射影像，利用此影像在入射光不同角度時的幾何形狀變化來推出介面的結構。
- Title
- 矽化鍺/鍺介面結構之X光三光表面繞射實驗
- Translated title
- 矽化鍺/鍺介面結構之X光三光表面繞射實驗
- Creators
- 吳炳琨 (Author)
- Contributors
- 張石麟 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Date published
- 2005
- Language
- English