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矽薄膜厚度 於 FD SOI MOSFET 之研究
Thesis

矽薄膜厚度 於 FD SOI MOSFET 之研究

沈建元
Masters, 國立清華大學, 電子工程研究所
2002

Abstract

矽薄膜厚度 短通道效應 完全空乏式 silicon film thickness SCE fully depleted SOI
FD SOI MOSFET 比傳統式的SOI MOSFET元件有許多的優勢。現在希望能將元件的尺寸來縮小,以便能在相同面積的chip上,放入更多的元件,這樣可以結省成本,同時能有更強大、更多的功能;但是傳統的元件尺寸縮小到某種程度後,遇到許多的瓶頸,使得縮小後的元件,操作性能變得走樣,所以需要靠其他的方法來改善,然而FD SOI MOSFET所擁有的這些優勢,能解決這些困難,在元件尺寸的縮小上,有許多助益,所以為了在減少許多阻礙元件縮小的物理效應上,而採用FD SOI MOSFET 是一個不錯的解決方法。 矽薄膜厚度(silicon film thickness) 在SOI MOSFET中,是一個重要的因數;當元件月做越小時,越需要先進的製程技術,但是製程的過程中,難免還是會有些誤差,尤其在一些尺寸已經很小的參數上,因為製程上的不理想因數會讓元件的尺寸有誤差,而矽薄膜厚度就是其中的一項。論文藉由理論模型和MEDICI模擬的分析,找出元件幾個基本性質和矽薄膜厚度的關係,藉以看出矽薄膜厚度對SOI MOSFET元件的影響,如臨界電壓在長通道的元件下,會隨著矽薄膜厚度的減少並以空乏常數(Depletion Constant)的斜率下降,但是此斜率會因為SCE或DIBL而變小,同時SCE和DIBL也受到矽薄膜厚度的影響而有所改變。 藉由臨界電壓和矽薄膜厚度的關係發現減少矽薄膜厚度可以降低SCE和DIBL。並且在SCE上,矽薄膜厚度和通道長度之間存在一特定關係。

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