Abstract
本文主要針對硬碟片在化學機械拋光過程中，材料移除率以及表面粗糙度的研究，探討運動參數的影響。分為三個主題：第一個主題，藉由相對速度的電腦模擬來分析相對速度與轉速的效用，並以實驗驗證。材料移除率主要受盤面轉速所支配，而表面粗糙度則深受太陽齒輪轉速的影響。太陽齒輪和盤面的轉動方向相反時，相對速度積分值較高，同時材料移除率也較快。相對速度積分值與實際材料移除量的關係則藉由實驗值與模擬值的因次分析得到關係式。 第二個主題，分析拋光初期的材料移除率與表面粗糙度的變化之原因。拋光一開始只對工件表面的高點作材料移除，接著才是全面性的移除，所以拋光初始的材料移除率最高。表面粗糙度在拋光開始不久就已經降低到磨粒所可以達到的加工水準，往後的表面粗糙度隨時間的變化不大。 第三個主題，研究盤面轉動方向交替對材料移除率及表面粗糙度的影響。交替轉向會提高拋光墊的效率，使得材料移除率增加，但是同時也因為拋光墊中所含的大顆粒被掏出的數量大增，使得工件的表面粗糙度變差。