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脈衝雷射蒸鍍製作氮化碳薄膜之研究
Thesis

脈衝雷射蒸鍍製作氮化碳薄膜之研究

林建煒
Masters, National Tsing Hua University
1996

Abstract

雷射蒸鍍氮化碳 Laser depositioncarbon nitrideraman spectrum
理論上預測氮化碳(Carbon Nitride )為高硬度物質﹐這 使得它在工程上有很大的應用﹐所以合成硬度可以與鑽石相 比的物質如立方結構的氮化硼(cubic Boron Nitride)和氮化矽 (Silicon Nitride)﹐在最近幾年理論模擬與及時驗上的合成有越來越多的趨勢。以b-Si3N4形式存在的氮化碳具高硬度是1989年由Liu 和Cohen(9)提出的他們利用簡單的經驗式以及first principle pesudopotentialtotal energy approach計算出b-C3N4的模數 為4.27Mbar﹐這代表了它的硬度可能與鑽石相當或更高! 實驗上的則有許多學者利用各種不同方法嚐試合成 它。假如b-C3N4合成﹐化學組成比例N/C為1.33﹐但是目前 為止沒有人成功合成它﹐比例最高的也只有1。在本論文裡﹐我們利用脈衝雷射蒸鍍﹐以有機材料 Adenine (C5N5H5)﹐配合溫度製程﹐嚐試合成氮化碳薄膜﹐ 結果證實了選取方法的可行性。薄膜中的氫原素會隨著溫度 的提昇而釋放﹐XRD的圖形也表明﹐薄膜中隱含需進一步 研究的結構。

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