Abstract
本研究試驗250 微米厚的聚碳酸脂薄片, 用電化蝕刻技術記錄一些低直線能轉移粒子，即阿爾伐、質子、氘核、 H 、 H, 的可行性。利用 Pu標準輻射源在空氣中以不同距離照射薄片，可以研究能量在5.15百萬電子伏以下的阿爾伐徑跡。其餘荷電粒子的照射，是由范氏加速器打出的。本實驗證實：厚250 微米的聚碳酸脂片，以重量百分濃度45% 的氫氧化鉀水溶液，加上1150伏特，2 仟赫電源，在室溫約22℃下, 進行蝕刻, 可把質子從0.5 百萬電子伏到6 百萬電子伏,氘核1 百萬電子伏到6 百萬電子伏, H 粒子1 百萬電子伏到6 百萬電子伏, H 1 百萬電子伏到6 百萬電子伏。阿爾伏0.5 萬電子伏到5.15百萬電子伏, 的徑慫記錄下來。