Abstract
本文介紹如何利用半導體製程中常見的技術，諸如：光學曝光微影、濕式蝕刻、乾式蝕刻及真空鍍膜技術等，加上電子束微影技術，製作出一個具有奈米級尺寸的實驗載台，為實驗室接下來的探討分子導電性質或金屬的點接觸光譜 （Point-contact spectroscopy，PCS）之研究作前置作業。內容包括：於第一章導論中簡述實驗的動機。於第二章原理部分中，分別介紹（1）光學曝光微影法及電子束微影法的基本原理及優缺點比較、（2）濕式蝕刻的原理及常見濕式蝕刻中腐蝕液的比較、（3）乾式蝕刻的原理及本實驗使用的反應離子蝕刻機(Reactive Ion Etching，RIE)的基本工作原理，（4）真空蒸鍍金屬膜的原理，（5）最後介紹一下金屬點接觸光譜（Point-contact spectroscopy，PCS）的原理。於第三章實驗部分中，（1）首先就此次實驗中所用的實驗儀器做個介紹、（2）次之詳述整個實驗的流程及所需條件，並附上此實驗載台於各實驗流程的完成示意圖，（3）最後就實驗數據作個陳列及探討。第四章的後記說明了此載台的優點及後續利用價值。