Abstract
Ag-In-Sb-Te是現今CD-RW碟片所採用的記錄層材料之一，在高密度記錄上可用於DVD-RW。在工業界，常見的鍍製記錄層方式有DC與RF磁控濺鍍，但針對此兩種製程方式對碟片表現的影響研究卻很少文獻報導。由於Ag-In-Sb-Te材料電阻不高，故薄膜都是用DC方式製備，後來的研究指出使用RF可以改善薄膜的一些性質，如密度變高、空孔與氬氣含量較少、表面平整性較佳等優點。但由本實驗所得到的RF製程薄膜密度比DC薄膜稍低，且其氬氣含量比DC高，碟片的衰退也比較快。因此記錄層薄膜的基本性質並非全由製程的方式：DC與RF所控制，會因為製程中的參數而改變了薄膜的性質。