Abstract
本研究乃是利用范氏加速器（Van de Graaff Accelerator ）加速氫離子至１Mev ，在350 ℃照射Zircaloy－４試片，藉掃措穿透式電子顯微鏡（STEM）分別觀察三種質子輻射劑量（０．０１dpa ，０．１dpa ，１dpa ），對不同熱機處理Zircaioy－４顯微結構之影響。以擇區繞射圖案（STEM╱SADP）分析析出物結構，並以ｘ光能譜分析儀（EDAX）分析析出物之成份。結果顯示１０５０℃╱１hr╱空冷熱機處理（簡稱B１）之 Zircaloy- ４，晶界上析出物的尺寸隨質子輻射劑量增加而有長大現象，基地中之析出物有逐漸消失的趨勢，其析出物為六方晶體（hex ）之Zr（FexCr(１－x) )２（a ＝０．５０４nm c＝０．８２５nm）與面心立方晶體（fcc ）之ZrCr２（ａ ＝０．７２０８nm ）混合之型式結構。隨質子輻射劑量增加，析出物之Fe╱Cr比，有逐漸降低的趨勢。１０５０℃╱１hr╱空冷╱30％冷軋╱６５０℃╱２hr╱空冷╱３０％冷軋╱５５０℃╱３hr╱空冷熱機處理（簡稱B６）之Zircaloy －４，晶界上或晶粒內析出物的尺寸，隨質子輻射劑量增加，並無顯著的變化。析出物為六方晶體（hex ）之Zr（FexCr(１－x)）２（a ＝０．５１０ ２nm c＝０．８２４nm）及a ＝０．７２０８nm ZrCr２之fcc多型式結構。質子輻射劑量為１ dpa時，發現有ZrSnFe或Zr４Sn（a ＝０．７６４５nmc ＝１．２６４nｍ）四方晶體結構（tetragonal）之析出物。照射後之Zircaloy －４中，均未發現析出物有非晶質轉換現象。