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退火處理與氮氧堆疊穿隧介電層對快閃記憶體之影響
Thesis

退火處理與氮氧堆疊穿隧介電層對快閃記憶體之影響

宋兆?
Masters, National Tsing Hua University
2002

Abstract

氮化矽氮氧堆疊快閃記憶體穿隧介電層快速熱處理 NitrideN/O stackflash memorytunnel dielectricAnnealing treatment
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