Abstract
結合霍氏紅外光譜法(FRIR)和間質隔離法 (MATRIX ISOLATION), 偵測在Ar和 N 間質中硝酸(HONO ) 受各種不同光源照射後, 所產生的過氧亞硝酸(HOONO) 異構物紅外光譜。在氣態中HONO 光解後, 應會產生OH 和 NO, 再經結合反應後, 除了會生成HONO外還可能產生 HOONO。在本實驗中, 當以低壓汞燈、中壓汞燈、鎘燈 (229和326nm)鋅燈(214nm和308nm), KrF激發雷射(248nm) 和 Nd-YAG 雷射(266nm) 照射 Ar 間質中的HONO 後發現(3545.8, 1703.6, 1364.2, 952.3和772.9 cm ) 與(3563.5, 1783.2,1372.6, 957.0 781.5cm ) 兩組吸收。在光解 Ar 間質中的 HO NO 及 DONO 後, 亦觀察到各有兩組吸收, 並從同位素位移中判斷, 這兩組吸收的五個吸收峰頻率各符合 HOONO的五個振動模式。所以我們標定光解後所產生的兩組吸收是屬於HOONO ，由於這兩組吸收會隨照光時間長短，能量強弱和光解光源的不同而彼此消長。為了進一步判斷這兩組吸收是屬於 HONNO 的異構物或是因不同之間質環境所造成之位移，我們利用HONO / N 的光解來探索這個問題，在N 間質的光解反應中，只有一組吸收(3541.6, 1701.4, 1394.9, 960.5, 783.6 ) 產生，所以我們認為在HONO / Ar光解反應中產生的兩組吸收為HOONO 在不同間質環境所造成, 而不是異構物。同時實驗所得之HOONO / Ar, HOONO / N, HOO NO / Ar 及 DOONO / Ar 的IR吸收峰頻率與ab initio 理論計算 (RMP / - 31G*) 值頗為吻合, 其平均差異對 HOONO,HOON O, DOONO 而言, 分別為 2.5%, 2.3%和2.6% 。這是第一次看到HOONO在Ar間質的IR光譜。