Abstract
摘要 由於銀氧化物薄膜本身具有光記錄應用的潛力，因此本實驗以反應性濺鍍來製備氧化銀薄膜，並以X-Ray、TGA、ETA等儀器之量測結果來探討僅寫一次型光記錄媒體所需之記錄膜條件，並試著調整本實驗之製程，以期得到所需性質之氧化銀薄膜。 此外，為了因應未來元件實際的製作，本實驗亦以光學模擬及熱傳模擬兩種模擬的方式來評估不同膜層結構及厚度對整體碟片的影響，希望藉著模擬的方式來得到最適宜的膜層結構及膜厚組合匹配，以利實際上多層膜碟片的製作。 在實際碟片的製作上，本實驗以濺鍍製程的方式，在PC基板上依序鍍上所需之膜層結構及不同組合之厚度，最後旋鍍上一層保護膜。製作好之碟片則以動態測試機來測試其不同功率寫入之情形，並以 AFM來觀察寫入點的形狀。由測試之結果，單層記錄膜結構之碟片在整體寫入方面，有著較佳的表現，因此未來將朝向此方面來研究改進，以符合規格之要求。