Abstract
由於銀氧化物薄膜的相關研究較少，真空製程的探討更付之闕如，本實驗以反應性濺鍍沉積銀氧化物薄膜，探討製程中製程參數:包括鍍膜功率、氧氣比例、及不同製程壓力下對薄膜組成、微結構及光學性質的影響，並利用DSC及TGA對某特定高吸收係數，且結晶相含Ag3O4、AgO的薄膜進行相轉變和熱重損失的研究。 鍍膜功率愈高(指60W~150W間)及工作壓力愈小(3mtorr~5mtorr間)鍍膜速率愈快，且當氧偏壓增加到足以使銀氧化物由黑褐色(結晶相含Ag3O4、AgO)變為橙色(結晶相僅含Ag3O4)時，鍍膜速率會明顯減少。X-ray分析知Ag3O4易以結晶相的形式存在薄膜中，而Ag(或Ag2O)易以非結晶相的形式存在薄膜中。相較於5mtorr，工作壓力3mtorr的製程條件，可製作出高吸收係數且AgO含量更豐富的銀氧化物薄膜，於波長635nm及780nm下AgO有吸收而Ag3O4幾乎不吸光，FTIR顯示Ag3O4於波數1374cm-1有一大吸收峰。 薄膜(塊材中CP)AgO分解為Ag2O及O2的溫度為152.5℃(220℃)，薄膜(塊材中以化學沉澱製備的)Ag2O分解為Ag的溫度為402.4℃(458℃)，可知薄膜中銀氧化物的分解溫度比塊材中低。經由TGA分析知含Ag3O4、AgO結晶相的薄膜可能含有非晶相的銀或(且)非計量係數比的銀氧化物。