Abstract
由於鋁合金具有許多優點，已逐漸廣範用於種種真空系統。做為加速器儲存器儲存環真空腔，其釋氣率的問題，影響著輻射束的壽命。在許多降低釋氣率的方法中，氣體輝光放電清洗是一種有效、快帶而花費低廉的方法，且適合各種形狀大小的真空腔體。本實驗對A6061 鋁合金進行氫氣，氮氣，氬氣三種氣體輝光放電清洗，並以二次離子質譜儀(SIMS)分析輝興放電清洗，前後的差異，以了解此三種氣體是以物理濺射或化學濺射的方式清潔表面。並做縱深剖面分析，以觀察放電氣體沈積的現象。分析發現，氬氣以物理濺射方式清洗材料表面，而對於氫氣，主要以化學濺射清洗。氮氣以物理濺射方式清洗材料表面，表面而對於氫氣，主要以化學濺射清洗。氮氣則介於兩者之間。在氮氣放電清洗後，發現[CN]訊號出現，藉著其出現，由縱深分析可觀察到氮氣殘留的現象。氮氣放電清洗後再經氫氣放電清洗由縱深分析發現，在較內層仍很高的[CN]訊號。但氫氫對於[F] 及[CL]的作用，由縱深分析可觀察到其訊號向內層逐漸下降，而氬氣及氮氣卻有一峰值存在，研判氫氣因擴散快速以及貫穿深度較深，其作用深度較氬及氮氣可及於較內層。#50008868.abs#50008868.abs