Abstract
鈮酸鍶鋇(Strontium barium niobate)固溶陶瓷系列為鐵電材料之一，其化學式為SrxBa1-xNb2O6，簡寫為SBN。在室溫為正方晶 (tetragonal) 結構，改變Sr/Ba之比，可使Tc於60℃?250℃間連續地變化。一般鐵電材料鍍於矽基材及白金基材有明顯之疲勞效應，鍍於YBCO雖有好之從優取向然其化學性質不穩定…，諸多缺點，造成薄膜性質之不穩定。在此論文，我們將使用具有鍍膜速率快，化學計量比易控制優點之雷射濺鍍法，使用之雷射光為 248nm波長之 KrF準分子雷射，並嘗試使用釕氧化物(二氧化釕RuO2；釕酸鍶SrRuO3)等材料做為SBN與Si間之緩衝層，希望達到緩衝層具導電性，並有助於 SBN50長出具有從優取向 (Texture)之薄膜，進而改善其性質。