Logo image
針對線長最小化對考慮多層多重微影技術的整數倍列高標準元件擺置合法化技術
Thesis

針對線長最小化對考慮多層多重微影技術的整數倍列高標準元件擺置合法化技術

方齊均
Masters, 國立清華大學, 資訊工程學系所
2016

Abstract

標準元件擺置 擺置合法化 多重微影技術 Standard Cell Placement Placement Legalization MPL
abstract hide

Metrics

1 Record Views

Details

Logo image