Abstract
本論文主要研究鉛薄膜在氧化矽晶片上的高溫固態反應。在V/S O /S 系統中，S OM V 拉塞福後間顯示約800℃ 發生反應，S O 被V 還原，0 擴散至尚未反應Vlayer中而在V-S O 界面處形成V S, 呈現VOS/V S /S O /S layer 結構，但在1000℃ 以上退火，表面出現同心凹圈，矽化物最後為VS .
- Title
- 釩薄膜在氧化矽晶片上的固態反應
- Translated title
- 釩薄膜在氧化矽晶片上的固態反應
- Creators
- 宋嘉斌 (Author)
- Contributors
- 陳建瑞劉遠中 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Language
- English