Abstract
在本研究中利用穿透式電子顯微鏡配合晶格影像模擬理論及表面分析儀器來探討釩､鉻金屬薄膜層與矽晶界面反應的情形，並配合電流-電壓曲線的量測探討釩､鉻金屬薄膜層與矽晶反應時，其蕭特基能障的變化。本研究可分為以下幾部份 : A. 關於非晶質夾層部份 : 矽晶界面反應之非晶質夾層成長動力學，非晶質夾層平均組成及非晶質夾層中短程有序結構之分析。 B. 關於矽化物形成部份: 最初相以及多相共同生成現象之探討以及至最終穩定相生成前多相消長現象探討，鉻與矽晶生成之二矽化鉻之成長動力學研究。 C. 釩､鉻金屬薄膜與矽晶反應時之蕭特基能障之變化。