Abstract
摘要本實驗主要探討鉬(001)單晶基板表面的製備，並利用臨場-電子低能繞射儀(LEED)觀察其表面結構，由於用來磊晶的基板必須有相當低的粗糙度方能在基板上磊晶，在此將研磨後的鉬單晶再經過離子濺射及退火的步驟，方能藉由低能電子繞射儀看到鉬單晶之繞射點，另外也藉著退火時間的長短觀察繞射峰強度的變化,求出Arrhenius law中鉬(001)的活化能約為0.6~0.7 eV，而我們也嘗試著在處理後的鉬(001)基板鍍上坡莫合金(Ni80Fe20)，經由低能電子繞射儀及同步輻射光觀察其結構，得知鉬(001)和坡莫合金兩者相對的磊晶關係。