Logo image
鉬矽化物之研究
Thesis

鉬矽化物之研究

姚亮吉
Masters, National Tsing Hua University
1983

Abstract

鉬矽矽化物蒸鍍矽晶片材料科學物理 MATERIALS-SCIENCEPHYSICS
本研究乃於真空中以電子槍方法蒸鍍金屬鉬薄膜於不同溫度的(100)和(111)矽晶片上。在氮爐中以各種溫度熱反應後,找尋其反應溫度和所形成的相。上述同樣的試片,在離子佈植後,亦做同樣的實驗,比較反應程序後,討論其差別之原因。不同厚度之鉬薄膜在紅外線熱反應後,亦做相變化之探討。利用穿透式電子顯微鏡、X–光和凡得普電阻測量來研究各種矽化物的形成和特性。

Metrics

1 Record Views

Details

Logo image