Abstract
目的：研究應變速率，外加電位，氟鹽溶液的濃度與pH值對鋁青銅在氟鹽溶液中的應力腐蝕影響。方法：利用慢速添設機測試應力腐蝕破裂，以光學顯微鏡觀察微觀結構，Ｘ光繞射儀分析氧化膜組成，掃描式電子顯微鏡，電子微探測儀分析材料應力腐蝕特徵。結果：增加外加陽極電位將促進應力腐蝕破裂，外加電位達＋170mV（SEC）時產生嚴重的一般性腐蝕降低了應力腐蝕破裂，外加陰極電位使材料免於應力腐蝕破裂。降低氟鹽水溶液的濃度能減緩應力腐蝕，因為低濃度（10□□，10□□及10□□M NaF ）試棒表面發生一般性腐蝕。增加氟鹽水溶液的pH值，降低了材料腐蝕速率與應力腐蝕破裂。鋁青銅在氟鹽水溶液中的應力腐蝕破裂機構為滑動–溶解機構，材料表面附著性良好的氧化亞銅膜受力破裂，曝露於溶液的破膜處金屬發生陽極溶解，然後氧化膜再生成，如此反覆進行以上三步驟造成應力日偏蝕斷裂。