Abstract
由於強介電薄膜具有一些特殊的介電性、焦電性、壓電性與光電性，以致早在1970年代就開始被應用到電子與電光方面的設計，所使用的材料，大部份是一些具有鈣鈦礦（Perovskite）結構的材料。 本實驗主要是討論低溫下利用雷射剝鍍鋯鈦酸鉛鑭（PLZT），再經由不同的熱處理過程，使其形成結晶相並探討熱處理條件對電性及表面結構的影響，及緩衝層對鋯鈦酸鉛鑭（PLZT）結晶性及電性的影響，並嘗試利用低溫製程低溫鍍膜的等優點，製作鐵電薄膜圖紋。電射剝鍍法具有容易維持化學計量比、高鍍膜速率、以及可在較鎬的壓力下鍍膜等優點，因此特別適合多成份化物薄膜的製作。 在PLZT與白金（Pt）電極間加入一緩衝層，可有效降低PLZT成相的溫度，抑制焦綠石相的生成，防止疲勞現象的發生，並能防止基板物種擴散至PLZT薄膜層中，對電性亦有很大的助益。以雙電極Pt / SRO上PLZT鐵電薄膜的最佳電性是：Pr = 19uC / cm2, Ec = 78kV / cm 。