Abstract
近年來隨著半導體製程技術的進步，線寬(Critical Dimension)不斷地縮小且晶片尺寸加大，監測與控制鍍膜及蝕刻等製程的均勻度與穩定度也變得愈來愈重要。其中在電漿鍍膜製程中，薄膜的品質與電漿特性便有十分密切的關係。利用離子化金屬電漿源的高游離率特性，使得金屬離子的沈積方向易於控制，因而增加沈積時的準直性，以獲致良好的階梯覆蓋性。
- Title
- 離子化銅金屬電漿之電漿特性量測分析
- Translated title
- 離子化銅金屬電漿之電漿特性量測分析
- Creators
- 李祥榮 (Author)
- Contributors
- 柳克強 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Language
- English