Abstract
本論文主要包含兩部份；第一部分是設計及組裝一套能同時進行電漿濺鍍 及化學氣相沈積反應的真空鍍膜系統，在目前，並沒有商品化的電漿輔助 化學氣相沈積（PECVD）裝置可以達到上述要求，如果要進行複合薄膜的 研究，一般都是使用兩種技術來沈積複合薄膜，因此所使用的系統都是極 為複雜、昂貴，而且薄膜的品質不易控制。在這篇論文中，我們透過適當 的設計，組裝一套經濟而且高效能的兩用電漿輔助化學氣相沈積裝置，可 以避免不同反應間的干擾，並成功的同步（in-situ）製造出優良品質的 多層複合薄膜（Pt－ TMDSO－Pt－TMDSO）。除了在多層複合薄膜的製備 外，這套系統也有其它的應用領域。在論文的第二部份，我們利用這套自 行組裝的系統進行親水性表面修飾的研究。我們分別進行了氣體（氧氣、 氮氣）電漿表面處理，還有高分子聚合表面修飾以及複合高分子聚合表面 修飾。結果顯示上述的方式對親水性的提升都有幫助，但如果考慮到表面 極性官能機轉動所造成的親水性衰退，對聚碳酸脂基材所使用的複合高分 子聚合表面修飾（底層高分子為碳矽氧薄膜，上層為丙炔醇聚合物），可 以使有效親水性時間延長到36小時。