Logo image
電荷藕合元件雜訊的量測與分析
Thesis

電荷藕合元件雜訊的量測與分析

陳德成
Masters, National Tsing Hua University
1988

Abstract

電荷藕合元件雜訊量測電位差載子容量介面狀態信號量脈波頻率 VOLTAGE-DIFFERENCEINTERFACE-STATESCLOCK-FREQUENCY
電荷藕合元件的高度發展,雜訊之降低早已成為關鍵所在。本文的目的即在測量埋層電荷藉合元件(BCCD)雜訊,以作為往後理論分析之依據。這裡,我們使用了波形頻譜分析儀和示波器來存取雜訊的功率頻譜函數與波形相關資料。依先後改變信號量,波形擺幅以及脈波頻率來測量雜訊,包括了輸入雜訊,傳輸雜訊,重置雜訊以及放大輸出器雜訊。我們利用電位差(Voltage difference)注入載子於線性操作電荷藕合元件,在小信號注入而位井尚未填滿時,逐漸增加信號量,來比較信號量的大小對雜訊的影響。然而,電荷藕合元件有它的載子容量,當信號增加至足以受介面狀態(interface stat-es )影響時,埋層電荷藕合元件(BCCD)便變成了表面操作之電荷藕合元件(SCCD)。此時,雜訊型態已完全改變。在本文內我們所探討的雜訊頻率分佈範圍,根據NY-QUIST LIMITS 理論,僅考慮O-fc╱2之間,其中fc為操作時之脈波頻率(Clock Fr-equency)。另外,我們亦發現:電容增益比隨著信號量的遞增而改變,尤其在大信號注入時變化最劇,此現象為輸出端飽合所致,根據測量,內部雜訊約4*E2,即信號量須大於內部雜訊方能識別之。

Metrics

1 Record Views

Details

Logo image