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電路板鍍金製程之研究
Thesis

電路板鍍金製程之研究

張湘辰
Masters, National Tsing Hua University
1995

Abstract

乾膜 膨潤 滲透 要因設計 穩健設計 DRY FILM SWELLING FACTORIAL DESIGN ROBUST DESIGN
乾膜在印刷電路板鍍金的程序中,常發生剝落的現象, 造成產品良率下降,因此本文將探討造成乾膜剝落的原因並尋求改進的方法。本研究發現利用UV光譜法較傳統金相顯微鏡方法, 可以更靈敏、更定量的偵測乾膜溶蝕。我們也由電解水的實驗,證實OH-離子與H2對乾膜皆具有溶蝕的效果,經由一個電鍍液迴流系統,有效的降低鍍金程序中, 陰極所產生的局部累積的OH-離子與H2氣體對乾膜的溶蝕作用。本論文使用L8要因實驗證明流速攪拌的效應,可降低氣體對乾膜的剝離效應。由L18的穩健設計實驗方法求出鍍金製程最適條件,得知在KAu(CN)2為24g/L、檸檬酸為30g/L、檸檬酸銨為90g/L、pH=6、電流密度為1ASD 、溫度為攝氏70度及攪拌為7turnovers/min下,可使鍍金效率達到80%左右,同時乾膜的溶蝕作用亦很少。

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