Abstract
本論文旨在探討高壓 衝電子束對離子佈植後蛝火之可行性，文中除了對 衝褪火的基本理論有概略的介紹外，還實際的設計了一個便宜、方便、效能良好的２０Ｋｖ８μＳ高壓□衝放電系統，同時將一ＢＦ□□離子佈植之平面二極體進行不同能量的褪火測試；褪火之後並分物性及電性兩種方向進行分析；在物性方面我們有褪火之均勻性、表面狀況、雜質分布以及表面載子移動率等測試，在電性方面則對褪火後的電阻變化以及二極體的Ｉ－Ｖ圖形做分析，經過多次測試，我們發現高壓 衝褪火的效果較一般高溫褪火有過之而無不及。論文後並附上一篇對Ｘ光表層分析的研究心得。