Abstract
利用重離子照射鋯試樣來模擬中子損傷及照射 B-QE-４試樣來研究溶質影響微結構的產生及析出物的穩定性。實驗利用６００kV的N或N離子，照射溫度範圍在３５０℃?５００℃之間，最大照射劑量為７７。利用標準穿透式電子顯微鏡技術來描述輻射引起的微結構。在鋯中主要的損傷結構是差排環，在B-QE-４試樣中則為差排環與析出物的溶解與成長。無空洞與氮化物被觀察到，結果顯示氮離子照射可以用來模擬鋯在核反應器中的中子損傷。
- Title
- 高溫下鋯和鋯一四合金之氮離子照射損傷
- Translated title
- 高溫下鋯和鋯一四合金之氮離子照射損傷
- Creators
- 楊村農 (Author)
- Contributors
- 陳力俊喻冀平 (Advisor)
- Awarding Institution
- National Tsing Hua University; Masters
- Theses and Dissertations
- Masters, National Tsing Hua University
- Resource Type
- Thesis
- Language
- English