Abstract
本文利用四格酸鈉槽，已順利得到高品質、高效率的黑鉻鍍層。並且供應電流密度每平方公寸可高達一千安培以上。並經研究得知，多層鍍膜（Cr□O□/Cr/Fe-ZnallayCr□O□/Cr/Zn （熱浸鍍鋅）Cr□O□/Mi等等），均可不必經過為了增加附著性之特殊前處理而達成。經鹽霧試驗得知，黑鉻比鉻鍍層耐蝕性為佳。並經由彎曲試驗得知，對底材為鐵、熱浸鍍鋅、鐵鋅合金以及鎳等均有極佳的附著性。而且由漆層剝落率試驗得知，黑鉻鍍層具有很好的塗漆性。關於黑鉻的組成，可由ESCA（electron spectroscopy of cnemical analysis）與Auger depth prorile 得知為三氧化二鉻。鍍層表面形態與成分元素分佈之均勻性可由SEM （scanning electron Microscopy）與X-Ray Mapping 得知。並探討鍍鉻與黑鉻的反應機構。