Abstract
摘要: 半導體製造業對元件尺寸的要求越來越細小，相對於在製程控制的需求亦越來越精密，因此，批間控制(Run-to-Run，RtR Control)技術便是這樣的需求下而開始發展。目前半導體製造業面臨到一個困境－產品多樣少量的問題，導致於製程產品不太容易控制穩定，特別是少量的產品。 這篇論文中，將介紹批間控制(Run-to-Run Control)相關原理及發表的文獻，並依據工廠實際數據進行製程分析與建模並嚐試重建工廠製程，進一步為了解決上述所提產品多樣少量的問題，我們將嘗試發展一套新的控制策略，Tool＋Product noise-based controller，命名為Mixed Product EWMA (MPEWMA)，其最大的特色便是考慮機台本身造成的干擾(Tool noise)，且運用MATLAB程式語言編輯一套MPEWMA黃光製程模擬控制器。在進行工廠數據模擬控制前，先利用一個雙產品的虛擬製程來進行模擬控制，最後使用工廠機台數據進行批間控制模擬試驗。