Abstract
本文在介紹以原子力顯微鏡於矽(110)晶面上產生氧化圖像，並以濕式刻蝕的方法作圖像轉移而製作出奈米結構。我們舉出兩個實驗例子。一是一維矽光柵，其週期在400nm以下，矽的寬度只有57nm，另一是二維的六邊形凹槽陣列，其尺寸在175nm到400nm之間。此方法可用在奈米結構的製作，如光子晶體、光導光柵，或是奈米結構之磁、光、電等性質之研究性。
- Title
- 以原子力顯微鏡製作奈米結構
- Creators - without role
- 忠霖 吳世森 簡尚志 果 - 國立清華大學理學院物理學系
- Publication Details
- 物理雙月刊, Vol.21(4), p.429
- Identifiers
- 9957769203306774
- Academic Unit
- Institute of NanoEngineering and Microsystems, College of Engineering, National Tsing Hua University
- Language
- Traditional Chinese
- Resource Type
- Journal article