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半導體製造之動態調整的比例積分控制器及線寬與覆蓋誤差之實證研究
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半導體製造之動態調整的比例積分控制器及線寬與覆蓋誤差之實證研究

宏鍇 王
2010

Abstract

批次控制;比例積分控制器;微影製程;線寬;覆蓋誤差;Run to run control;PI Controller;Photolithography;Critical Dimension;Overlay Errors

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