Abstract
本發明係提出一種新的方法來製備二次非線性光學高分子薄膜，此方法之特點為在單體蒸鍍聚合過程中共蒸鍍摻入具有該非線性光學效應之分子並同時極化，此法之優點在於該薄膜可在極低之極化場下製得，且無需經用傳統繁複的聚合程序，可方便製得無數多種可供裁選的(tailorable)薄膜。
- Title
- 二次非線性光學高分子薄膜製備方法
- Creators - without role
- 周卓煇周卓煇吳華書黃中垚
- Identifiers
- 9957787822206774
- Academic Unit
- Department of Materials Science and Engineering, College of Engineering, National Tsing Hua University
- Language
- Traditional Chinese
- Resource Type
- Patent
- Patent
- 400453; 120488
- Date application
- 24/12/1996