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專利
偏光照射方法とその装置
株式会社日立製作所HITACHI LTD
,
鈴木堅吉SUZUKI KENKICHI
,
大江昌人OHE MASAHITO
,
松田正昭MATSUDA MASAAKI
和
松山茂MATSUYAMA SHIGERU
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28/05/1999
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【課題】広視野角と表示異常が目立たない表示均一性とを両立させるための偏光照射方法とこの偏光照射方法を実現するための装置を得る.【解決手段】光源100からの出射光を長方形のビームパターンBPに成形した後,偏光分離板108によりそのP偏光波成分のみを分離すると共に,分離したP波成分の偏光軸を長方形のビームパターンBPの短辺方向に一致させて照射面110である有機高分子膜に通過させて液晶配向制御能を付与する.
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題名
偏光照射方法とその装置
翻譯題名
Method And Device For Polarization Irradiation
創作者:
株式会社日立製作所HITACHI LTD (申請人)
鈴木堅吉SUZUKI KENKICHI (發明人)
大江昌人OHE MASAHITO (發明人)
松田正昭MATSUDA MASAAKI (發明人)
松山茂MATSUYAMA SHIGERU (發明人)
申請國別
JPN
學術資源類型
專利
申請號
特願平9-302821
申請日期
05/11/1997
出版日期
28/05/1999
語言
繁體中文
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