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光學材料應力量測方法及其系統
Patent

光學材料應力量測方法及其系統

偉中 王 and 偉中 王
22/05/2017

Abstract

従って、本発明の目的は、低応力による全界応力測定が困難の課題を解決しまた測定効;果を向上させる光学材料の応力測定方法及びそのシステムを提供することにあり、かつ本;発明により効果的にハードウェアシステムを簡素化し、透過式又は反射式の精確な全界測;定作業の要求に満たすことができる

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